关于系统

    纳米颗粒沉积系统为每个研究实验室带来了沉积超纯金属纳米粒子的可能性。专为易于使用而设计，能够常规且可重复地将非团聚纳米颗粒沉积到直径达50毫米的样品上。

    触摸屏操作使沉积过程尽可能简单。日常操作培训只需 10 分钟。它还允许修改工艺变量以调整纳米颗粒尺寸、分布和层厚度等参数。

    样品通过透明室门装载，并且可以在沉积前在室中进行等离子清洗。源材料可以在 5 分钟内轻松更改。

    真空沉积工艺产生的超纯纳米颗粒不含碳氢化合物或其他污染物，这些污染物通常会困扰化学技术。纳米颗粒涂层直接沉积在您的基材上，经过 30 分钟的典型循环时间后即可进行分析；不需要进一步的干燥或纯化步骤。

→ 翻转磁控管盖

..快速的材料交换

→ 纳米粒子生成区

..在真空中形成的超纯纳米粒子

→ 样品室

..简单的样品装载

..通过透明装载门查看沉积物

→ 触摸屏

..全自动配方控制

..常用材料的预加载设置

便于使用

..直观的用户界面

..无需以前的真空经验

..针对常见材料的优化设置

灵活的

..多种材料和基材选择

..在几分钟内切换材料

无交叉污染

..无材料交叉污染

..可同时用于广泛的项目

安全坚固的设计

..完全互锁以确保安全

..坚固的设计可保护昂贵的组件

系统利用磁控溅射在真空中产生一束超纯纳米粒子。纳米粒子可以由任何金属或导电材料产生。

纳米粒子的特性是：

→ 超纯且不含碳氢化合物

→ 由 99.999% 的固体源材料生成

→ 多种无机材料可供选择，包括 Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti 和 Zr

→ 更换源材料时无交叉污染

→ 生成化合物纳米颗粒，例如氮化物和氧化物

  直观的用户界面易于使用，并允许完全自动化抽空和沉积顺序。

  → 全自动抽空和排气

  → 为常见材料预加载优化沉积设置

  → 高级用户可以控制沉积条件以改变纳米颗粒尺寸和沉积速率

  → 使用沉积重量或沉积时间选择沉积控制

该系统是理想的多用户工具。在 5 分钟内从一种材料切换到另一种材料。翻盖设计仅使用小型 Pozi 螺丝刀即可实现目标交换。后翻盖允许完全接触溅射靶材，无需移除磁控管头

专为直径达 50 毫米的各种基材类型和尺寸而设计。

即使是精密的基板也适用，因为沉积室中不会产生热量。

基材包括但不限于：

→ 显微镜载玻片

→ 培养皿

→ 微孔板

→ 电极

→ 膜

→ 塑料

规格：

重量：约。60Kg (113lbs)

尺寸： (LXWXH) 70 x 50 x 60cm (27.6x 19.7 x 23.6 英寸)

消耗品：

目标尺寸： 1 英寸（25.4 毫米）直径，最大 3 毫米厚。

最大样品尺寸： 50mm 直径。

材料：导电材料，包括Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Ti、Ir。

实用程序：

电源：单相IEC，AC@110-260v，50-60hZ。

气体：氩气（工艺气体）、氮气（排气）、高压空气（气动）、6mm 压缩接头。

水流量： 2L/min (0.3 US GPM) 2x10mm 压缩接头。

泵送：需要 DN25KF，120L/m (7.2m3/h) 前级泵（作为可选额外提供）。