关于系统

能够在超高真空中生成纳米颗粒并将其沉积到您的样品上，从而形成功能化表面。纳米粒子涂层的性能可以通过精确控制纳米粒子的尺寸、组成和结构来定制。

与化学技术不同，该系统允许将超纯纳米颗粒直接沉积到各种基材和材料上。薄膜密度可以调节，薄膜本身可以高度粘附到样品表面。

该系统可配备单个 1”、2” 源或三个 1” 源，即NL-DX3。NL-DX3 允许单独沉积多达三种材料，或者同时使用两种或三种材料作为合金沉积。

为了Z终控制纳米颗粒沉积，该系统QMS质量过滤器允许通过质量或纳米颗粒直径实时扫描或过滤沉积的纳米颗粒，从而优化生长条件。QMS通过我们简单直观的 Windows TM软件进行控制

NL-D2（左）和 NL-DX3（右）源选项

1 英寸或 2 英寸源

.. 从单一元素或合金靶材沉积

.. 高达 mg/cm2/sec 的高沉积速率

DX3 - 三重 1 英寸源

..一次加载三种不同的材料

..生成合金纳米粒子

..沉积替代元素纳米粒子

..每个目标的独立操作

→ 改变纳米粒径分布

..纳米颗粒尺寸从 1 - 20nm

→ 改变纳米涂层密度

..亚单层到 3D 纳米多孔覆盖

..松散地结合到高度粘附的涂层上

→ 控制纳米粒子结构

..结晶或无定形结构

..控制纳米颗粒形状

二十面体金纳米粒子

典型的铜纳米粒子分布

沉积控制

QMS 套件

 → 测量飞行中的质谱

  ..分析飞行中纳米粒子的质谱

  ..100 - 10 6 amu的质量范围

 → 过滤器纳米颗粒尺寸

  ..选择要通过过滤器的纳米颗粒质量

  ..过滤器模式下的质量分辨率为 +/-2%

 → 直观的软件

  ..基于 Windows TM的软件

  ..质谱数据记录

  ..预加载常见材料的质量校准数据

  ..输入新材料或合金的参数

  ..完全控制 QMS 操作和扫描设置

该系统利用磁控溅射在真空中产生一束超纯纳米粒子。纳米粒子可以由任何金属或导电材料产生。

纳米粒子的特性是：

→ 超纯且不含碳氢化合物

→ 由 99.999% 的固体源材料生成

→ 多种无机材料可供选择，包括 Au、Ag、Cu、Pt、Ir、Ni、Ti 和 Zr

→ 更换源材料时无交叉污染

→ 生成化合物纳米颗粒，例如氮化物和氧化物